项目名称: [招设2026C00269]高真空磁控溅射薄膜沉积系统采购邀请

项目编号: 招设2026C00269

招标公司: 上海交通大学

采购标的物: 高真空磁控溅射薄膜沉积系统

项目地区：上海 上海

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项目名称 高真空磁控溅射薄膜沉积系统 项目编号 招设2026C00269

公示开始日期 2026-09-30 17:01:27 公示截止日期 2026-10-05 18:00:00

采购单位 上海交通大学 付款方式 合同签订后预付 30%，设备发货前支付60%，验收合格后付10%

联系人 中标后在我参与的项目中查看 联系电话 中标后在我参与的项目中查看

签约时间要求 到货时间要求 签订合同后3个月内

预算

项目概述 购置高真空磁控溅射薄膜沉积系统的目的，主要是为了搭建一个高精度、高灵活性的气相沉积（PVD）平台，以满足科研或生产中对各类功能薄膜的制备需求。它能实现从金属、合金到氧化物、半导体等多种材料的单层及复杂多层纳米级薄膜的精准可控沉积，并确保薄膜具备优良的均匀性、致密性和附着力。这套系统不仅是支撑量子信息、光电器件、新能源等领域前沿新材料研发的核心工艺设备，也承担着高端人才培养和学科平台建设的重要功能，是一项旨在提升自主创新能力与核心竞争力的战略性投入。磁控溅射技术是工业镀膜的主要技术之一，易于科研成果转化，是新技术向工业领域推广的最经济有效的方法之一。

￥ 440,000

供应商资质要求

符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件

收货地址 上海交通大学指定地点

采购清单 1

采购物品 采购数量 计量单位 所属分类

高真空磁控溅射薄膜沉积系统 1 套 其他石油和化学工业设备

预算 ￥ 440,000

技术参数 1. 片内膜厚均匀性：≤±5%：2. 极限真空度：≤9.0x10-6Pa(经烘烤除气后)3. 磁控靶：3套，规格2英寸4. 直流电源500W，数量2台5. 射频电源500W，数量1台6. 基片台尺寸：4英寸7. 样品台炉丝温度： 700℃±1℃（无氧环境）8. 质量流量控制气：3路（氩气、氧气、氮气）流量准确度±1.5%F.S9. 复合真空计1台：1x105Pa-1x10-7Pa10. 工艺薄膜规 13.3pa或10pa（精度0.5%）

售后服务

上海交通大学

2026-09-30 17:01:27

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